Технологии

Магнетронное распыление – разновидность диодного
катодного распыления.

Образование паров распыляемого вещества происходит в
результате бомбардировки мишени ионами рабочего газа, которые образуются в
плазме газового разряда со скрещенными электрическим и магнитным полями.

Магнетронный распылитель – магнетрон – один из самых широко используемых технологических источников. Это универсальный инструмент, который может быть адаптирован для решения разнообразных задач, за счет выбора размера и формы магнетрона, конфигурации магнитной системы, состава мишени и газовой среды, характеристик источника питания и комбинации всего этого многообразия в рамках одного технологического процесса.
Разновидности магнетронов:
По типу электрического питания - ВЧ, DC, HIPIMS;

По конфигурации магнитной системы – сбалансированные, не сбалансированные, с обратным разбалансом;

По форме мишени – планарные, в том числе, протяженные, цилиндрические с зоной распыления как внутрь так и наружу, конические и др.

Магнитная система может быть построена на базе постоянных магнитов, катушек индуктивности или быть комбинированной.
Катод и магнитная система могут сканировать или вращаться относительно друг друга.
Мишень может быть с прямым охлаждением или с косвенным, может быть составная или смесевая.

Преимущества метода:

Возможность распыления широкого спектра материалов – сплавов, металлов и их соединений, полупроводников, диэлектриков с сохранением стехиометрического состава;
Возможность распыления в среде реакционноспособных газов;
Возможность создавать и регулировать в широком диапазоне поток заряженных частиц на подложку;
Высокое качество покрытий на подложках из различных материалов;
Высокая равномерность покрытия для крупногабаритных (по двум размерам) подложек.

Недостатки метода:

Ограничено оптимальное расстояние мишень-подложка;
Относительно высокая стоимость оборудования

На заметку:

Самая большая деталь на которую наносилось защитное покрытие на нашей установке ВАТТ 4500-4М – это шибер затвора с габаритами 3000х1500х150 мм и весом 5000кГ.

Наша компания разрабатывает оборудование, технологические источники и технологии для нанесения покрытий методом магнетронного распыления в вакууме. Вы можете ознакомиться с произведенными ранее установками, где используется указанный метод или прислать техническое задание для разработки нового оборудования.

Реализовано в установках::