Преимущества метода:

• Низкое рабочее давление;
• Низкое тепловое воздействие на подложку;
• Возможность распыления широкого спектра материалов;
• Возможность управления энергией ионов, бомбардирующих мишень;
• Сохраняется стехиометрический состав покрытий при их получении распылением мишени из сплава.

Недостатки метода:

• Ограничения по выбору напыляемого материала;
• Сложность напыления материалов сложного состава из-за фракционирования, происходящего благодаря разнице в давлениях пара компонентов, в отличии от магнетронного распыления.

Термическое напыление применяют в процессах:

1. Низкие скорости роста покрытия;
2. Низкие энергия частиц, степень ионизации и, как следствие этого, невысокая адгезия покрытий;
3. Высокая степень загрязнения покрытий атомами газовой фазы;
4. Наличие в покрытии высокой плотности радиационных дефектов, причиной появления которых является воздействие на поверхность высокоэнергетичных электронов, отрицательных ионов.

Разновидности:
Наша компания предлагает установки с различными источниками ионов:

• установки с замкнутым дрейфом электронов (шелевой источник типа «Радикал», сеточные ионные ускорители (источник Кауфмана));
• ВЧ источники ионов, холловский торцевой ускоритель (End Holl источник).

Наша компания разрабатывает оборудование, технологические источники и технологии для нанесения покрытий методом ионно-лучевого распыления в вакууме. Вы можете ознакомиться с произведенными ранее установками, где используется указанный метод или прислать техническое задание для разработки нового оборудования.