Электронно-лучевое испарение – процесс термического испарения материала мишени, где источником испаряющей энергии является направленный поток электронов.
Как правило, испаряемый материал загружается в тигель. При необходимости нанесения многослойных покрытий применяются поворотные держатели с возможностью установки нескольких тиглей. Электронный пучок может иметь различную фокусировку, сканировать по заданной программе по поверхности испаряемого материала. При испарении диэлектриков и широкозонных полупроводников используется пульсирующий режим.
Преимущества метода:
Недостатки метода:
Электронно-лучевое напыление применяют в процессах:
На заметку:
На установке ВАТТ 300 ЭЛ/СВ в условиях сверхвысокого вакуума получают пленки толщиной от нескольких нанометров для исследования физических свойств наноразмерных материалов. В то же время, электронно-лучевым испарением наносят термозащитные покрытия (ТЗП) толщиной до 100мкм.
Наша компания разрабатывает оборудование, технологические источники и технологии для нанесения покрытий методом электронно-лучевого испарения. Вы можете ознакомиться с произведенными ранее установками, где используется указанный метод или прислать техническое задание для разработки нового оборудования.