Электронно-лучевое испарение

Электронно-лучевое испарение – процесс термического испарения материала мишени, где источником испаряющей энергии является направленный поток электронов.

Как правило, испаряемый материал загружается в тигель. При необходимости нанесения многослойных покрытий применяются поворотные держатели с возможностью установки нескольких тиглей.
Электронный пучок может иметь различную фокусировку, сканировать по заданной программе по поверхности испаряемого материала. При испарении диэлектриков и широкозонных полупроводников используется пульсирующий режим.

Преимущества метода:

  • Возможность получения тонких пленок металлов, сплавов и диэлектриков;
  • Возможность испарения самых тугоплавких материалов с высокой скоростью;
  • Отсутствие капельной фазы;
  • Возможность нанесения многослойных покрытий в одном вакуумном цикле при использовании одной электронно-лучевой пушки с несколькими тиглями;
  • Высокая чистота осаждаемого покрытия.

Недостатки метода:

  • Проблемы с равномерностью покрытия по толщине, поскольку источник испарения точечный;
  • Сравнительно невысокая адгезия и плотность покрытия;
  • Относительно невысокий КПД электронно-лучевых устройств;
  • Возможность появления радиационных дефектов в покрытии.

Электронно-лучевое напыление применяют в процессах:

  1. Нанесение оптических покрытий;
  2. Нанесение защитных покрытий на рулонные материалы, в основном, металлы;
  3. Нанесение функциональных покрытий в радиоэлектронике;
  4. Нанесение толстых пленок различного функционального назначения, например, термозащитных покрытий на основе оксида циркония толщиной до 100 мкм.

На заметку:


На установке ВАТТ 300 ЭЛ/СВ в условиях сверхвысокого вакуума получают пленки толщиной от нескольких нанометров для исследования физических свойств наноразмерных материалов.
В то же время, электронно-лучевым испарением наносят термозащитные покрытия (ТЗП) толщиной до 100мкм.

Наша компания разрабатывает оборудование, технологические источники и технологии для нанесения покрытий методом электронно-лучевого испарения. Вы можете ознакомиться с произведенными ранее установками, где используется указанный метод или прислать техническое задание для разработки нового оборудования.

Реализовано в установках::
Применяется в отраслях::