Технологии

Вакуумно-дуговое нанесение покрытий (катодно-дуговое осаждение) — это физический метод нанесения покрытий (тонких плёнок) в вакууме, путём конденсации на подложку (изделие, деталь) материала из плазменных потоков, генерируемых на катоде-мишени в катодном пятне вакуумной дуги сильноточного низковольтного разряда, развивающегося исключительно в парах материала электрода.

Как правило, на катоде одновременно горит несколько (группа) катодных пятен. Количество катодных пятен увеличивается с увеличением тока. Для уменьшения капельной фазы желательно при том же токе увеличивать количество катодных пятен, чтобы уменьшить ток в каждом катодном пятне. Достигается это использованием инверторных источников питания дуги и магнитных полей, в том числе, автогенерируемых током дуги в магнитопроводе.

Преимущества метода:

Высокая производительность процесса;
Высокие адгезия и сплошность получаемых покрытий;
Возможность регулирования в широких пределах скорости нанесения покрытий (путем изменения, например, тока дуги);
Очистка и структурирование покрытия в процессе напыления

Недостатки метода:

Ограничение по материалам (только металлы);
Наличие капельной фазы в потоке напыляемого вещества

Разновидности:

По типу источника:

точечный торцевой источник (круглый, конический);
протяженный (цилиндрический, планарный);

По способу управления катодным пятном:

магнитное управление;
перекоммутация проводов.

Наша компания разрабатывает оборудование, технологические источники и технологии для нанесения покрытий методом дугового испарения в вакууме. Вы можете ознакомиться с произведенными ранее установками, где используется указанный метод или прислать техническое задание для разработки нового оборудования.

Реализовано в установках::