Современные технологии осаждения на поверхности функциональных покрытий позволяют решать широчайший спектр научно-технических задач: изменять тепловые, оптические, механические, электрические, трибологические, химические и другие свойства поверхности. Объектами модификации свойств могут служить подложки из различных материалов: металлы и сплавы, стекло и керамика, полимеры, текстильные материалы и многие другие.

Функциональные покрытия, как правило, состоят из нескольких слоев, при нанесении могут одновременно или последовательно использоваться несколько разных технологических источников и технологий. Для обеспечения условий, необходимых для формирования покрытия могут применяться нагрев/охлаждение подложек, бомбардировка заряженными частицами с разной энергетикой.

Вот неполный перечень технологий нанесения функциональных покрытий, которыми владеют наши специалисты:

1.Физические методы (PVD) делятся условно на испарение и ионное распыление

1.1. Материал может испаряться:
-резистивным нагревом
-электронным пучком
-лазерным пучком

1.2.Особняком стоит электродуговое испарение. С одной стороны, происходит испарение материала в катодном пятне вакуумной дуги, с другой стороны степень ионизации испаренного материала очень высокая.

1.3.К ионному распылению относятся:
-катодное распыление
-магнетронное распыление
-ионно-лучевое распыление
-ионная имплантация

2.Химические методы (CVD)

- вакуумное (LPCVD/UHVCVD);
- плазмохимическое (PECVD);
- атомно-слоевое (ALD)

Каждая из этих технологий имеет множество вариаций. Толщина слоев может быть от нескольких нанометров до сотни микрон. Количество слоев в покрытии может исчисляться сотнями. В покрытие и/или подложку могут имплантироваться ионы металлов или газов.
Важно, исходя из требований к покрытию, выбрать правильную комбинацию технологий и оптимальный комплект технологических источников.