Однокамерная установка периодического действия.

Автоматизированная вакуумная установка ионно-химического травления предназначена для мелкосерийного прецизионного травления подложек источником ионов.

Применяется в микроэлектронике и полупроводниковом производстве для удаления фоторезиста, очистки полупроводниковых пластин и сухого травления рисунка на полупроводниковых материалах.

Вакуумная камера изготовлена из нержавеющей стали размерами 300 мм диаметром и 500 мм глубиной. На двери камеры расположено смотровое окно для визуального наблюдения за процессом.

Внутри вакуумной камеры происходит откачка до глубокого вакуума, после этого осуществляется травление подложек с помощью ионного источника.

Используется источник ионов с анодным слоем мощностью 1000Вт.

Типичные скорости травления 0.1 -10 нм/с.

Система откачки состоит из турбомолекулярного насоса «Ky-Ky1000» производительностью 1000л/с и форвакуумного сухого спирального насоса производительностью10л/с.

Водораспределительная система оборудована чиллером.

Вся система управления установки, источники электропитания для магнетронов, системы ввода вывода, программируемый контроллер расположены внутри корпуса установки, на раме за вакуумной камерой.

Система управления позволяет как полностью автоматическое, так и ручное управление процессом.