Установка состоит из напылительной и шлюзовой камеры, которые разделены между собой затвором. В шлюзовой камере расположены устройства загрузки, нагрева и вращения, и осевого перемещения образцов. Внутри напылительной камеры расположены ионные источники очистки и распыления, а также шестипозиционный механизм поворота мишеней, три позиции которого имеют магнитную систему (магнетроны).

Напылительная камера постоянно находится под высоким вакуумом.

Для загрузки шлюзовая камера, при атмосферном давлении фиксируется в положении загрузки (выгрузки). Устанавливается держатель подложек, шлюзовая камера опускается вниз и производится низковакуумная откачка, после чего открывается затвор и начинается высоковакуумная откачка. Производится нагрев подложек. После достижения в шлюзовой камере необходимого для начала технологического процесса давления механизм подачи образцов переносит держатель подложек в напылительную камеру на позицию для ионной очистки.

Оптический контроль процесса нанесения покрытия в диапазоне 380-2700 нм по пропусканию и отражению.

Подложки для нанесения покрытия – оптическое стекло и кристаллы (германий, кремний, селенид цинка, сульфид цинка). Максимальный размер подложки 220мм.

Равномерность покрытия на диаметре 170мм, не хуже +/-1%.

Вакуумная система установки безмаслянная, на основе турбомолекулярного и спирального насосов. Установка имеет автоматический и ручной режимы работы. Система управления построена на основе контроллера и компьютера с выводом параметров на монитор.