ВАТТ 200ALD
Синтез пленок методом атомного послойного осаждения ALD.

Установка обеспечивает атомно-слоевое осаждение на твёрдых, дисперсных и пористых образцах.

Камера, реакторы и все трубопроводы изготовлены из нержавеющей полированной стали.

Обеспечивает использование в качестве прекурсоров газообразные (2), жидкие (4) и твердые реагенты (2).

Система откачки реализована на базе химостойкого пластинчато-роторного насоса с системой фильтрации масла. Перед входом в насос стоит азотная и цеолитовая ловушки.

Система водяного снабжения предназначена для подачи холодной воды в корпус камеры, контуры охлаждения крышки и днища. Циркуляция и охлаждение воды осуществляется при помощи чилера Unichiller UCO15H. Наличие необходимого расхода воды в системе определяется автоматически ротаметрами с датчиками уровня расхода.

Для работы с дисперсными материалами установлен прибор анализа газовой среды МКС VISION 2000-С, 300 а.е.м. с форвакуумным насосом.

Установка обеспечивает проведение технологического процесса в автоматическом режиме с сохранением всех шагов и технологических параметров в памяти компьютера.


Технические характеристики:
Предельное остаточное давление
2,3·10-4 мм. рт. ст.
Температурный диапазон подложки
25 – 500 ºС
Время напуска реагента
от 0,1 с до 20 мин.
Время откачки продуктов реакции
от 0,5 с до 3 ч. 
Выдержка обрабатываемых образцов в атмосфере реагентов
от 1 с. до 1 ч.
Габаритные размеры вакуумной камеры
Ø500х375 мм.
Потребляемая электрическая мощность
15 кВт.
Габаритные размеры установки 2100х1300х1600 мм.
Вес установки 700 кг.
Технологии, реализованные в оборудовании:
Отраслевые решения:
Не нашли подходящее Вам оборудование?
У Вас нестандартная задача?
Вам необходимо вакуумное оборудование по индивидуальной разработке?
Пришлите нам Вашу задачу, и наши специалисты предложат для Вас решения!